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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Alumina coating for dispersion management in ultra-high Q microresonators

Texto completo
Autor(es):
Inga, Marvyn [1, 2] ; Fujii, Lais [1, 2] ; da Silva Filho, Jose Maria C. [1] ; Quintino Palhares, Joao Henrique [3] ; Ferlauto, Andre Santarosa [3] ; Marques, Francisco C. [1] ; Mayer Alegre, Thiago P. [1, 2] ; Wiederhecker, Gustavo [1, 2]
Número total de Autores: 8
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Estadual Campinas, Gleb Wataghin Phys Inst, Appl Phys Dept, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
[2] Univ Estadual Campinas, Photon Res Ctr, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
[3] Fed Univ ABC, CECS, BR-09210580 Santo Andre, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: APL PHOTONICS; v. 5, n. 11 NOV 1 2020.
Citações Web of Science: 0
Resumo

Silica optical microspheres often exhibit ultra-high quality factors, yet their group velocity dispersion, which is crucial for nonlinear optics applications, can only be coarsely tuned. We experimentally demonstrate that group-velocity dispersion of a silica microsphere can be engineered by coating it with conformal nanometric layers of alumina yet preserving its ultra-high optical quality factors (similar to 10(7)) at telecom wavelengths. Using the atomic layer deposition technique for the dielectric coating, which ensures nm-level thickness control, we not only achieve a fine dispersion tailoring but also maintain a low surface roughness and material absorption to ensure a low optical loss. Numerical simulations supporting our experimental results show that the alumina layer thickness is a promising technique for precise tuning of group-velocity dispersion. As an application, we demonstrate the generation of Kerr optical frequency combs, showing that the alumina coatings can also sustain the high optical intensities necessary for nonlinear optical phenomena. (AU)

Processo FAPESP: 18/15580-6 - Cavidades optomecânicas rumo ao acoplamento forte com fótons únicos
Beneficiário:Thiago Pedro Mayer Alegre
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores - Fase 2
Processo FAPESP: 18/15577-5 - Circuitos nanofotônicos não-lineares: blocos fundamentais para síntese de frequências ópticas, filtragem e processamento de sinais
Beneficiário:Gustavo Silva Wiederhecker
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores - Fase 2
Processo FAPESP: 18/21311-8 - Amplificação paramétrica degenerada on-chip para processamento fotônico de informações
Beneficiário:Laís Fujii dos Santos
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 12/17765-7 - Nanofotônica em semicondutores do Grupo IV e III-V
Beneficiário:Gustavo Silva Wiederhecker
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Processo FAPESP: 18/25339-4 - Dispositivos fotônicos integrados
Beneficiário:Newton Cesario Frateschi
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático
Processo FAPESP: 12/17610-3 - Optomecânica em cristais fotônicos e fonônicos
Beneficiário:Thiago Pedro Mayer Alegre
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores