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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Diffraction-attenuation resistant beams: their higher-order versions and finite-aperture generations

Texto completo
Autor(es):
Zamboni-Rached, Michel [1] ; Ambrosio, Leonardo A. [1] ; Hernandez-Figueroa, Hugo E. [1]
Número total de Autores: 3
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Estadual Campinas, Dept Microwaves & Opt, Sch Elect & Comp Engn, Campinas, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 1
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: APPLIED OPTICS; v. 49, n. 30, p. 5861-5869, OCT 20 2010.
Citações Web of Science: 22
Resumo

Recently, a method for obtaining diffraction-attenuation resistant beams in absorbing media has been developed in terms of suitable superposition of ideal zero-order Bessel beams. In this work, we show that such beams keep their resistance to diffraction and absorption even when generated by finite apertures. Moreover, we shall extend the original method to allow a higher control over the transverse intensity profile of the beams. Although the method is developed for scalar fields, it can be applied to paraxial vector wave fields, as well. These new beams have many potential applications, such as in free-space optics, medical apparatus, remote sensing, and optical tweezers. (C) 2010 Optical Society of America (AU)

Processo FAPESP: 09/54494-9 - Viabilidade do uso de partículas metamateriais para manipulação e aprisionamento ópticos
Beneficiário:Leonardo Andre Ambrosio
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Processo FAPESP: 05/51689-2 - Centro de Pesquisa em Óptica e Fotônica - UNICAMP (CEPOF-UNICAMP)
Beneficiário:Hugo Luis Fragnito
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão - CEPIDs