Amorphous and excimer laser annealed SiC films for TFT fabrication

Garcia‚ B.; Estrada‚ M.; Albertin‚ KF; Carreño‚ MNP; Pereyra‚ I.; Resendiz‚ L.

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Amorphous and excimer laser annealed SiC films for TFT fabrication

Texto completo
Autor(es):	Garcia‚ B. ; Estrada‚ M. ; Albertin‚ KF ; Carreño‚ MNP ; Pereyra‚ I. ; Resendiz‚ L. Número total de Autores: 6
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	Solid-State Electronics; v. 50, n. 2, p. 241-247, 2006.

Processo FAPESP:	00/10027-3 - Produção, caracterização e aplicações de ligas semicondutoras e isolantes
Beneficiário:	Ines Pereyra
Linha de fomento:	Auxílio à Pesquisa - Temático

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