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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

On the hydrogen etching mechanism in plasma nitriding of metals

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Autor(es):
Figueroa‚ CA ; Alvarez‚ F.
Número total de Autores: 2
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Applied Surface Science; v. 253, n. 4, p. 1806-1809, 2006.
Processo FAPESP: 04/01977-9 - Estudo da nano e microestrutura de ligas metálicas contendo nitrogênio implantado por plasma pulsado e feixe iônico
Beneficiário:Carlos Alejandro Figueroa
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado