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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films

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Autor(es):
Scopel‚ WL ; Fantini‚ MCA ; Alayo‚ MI ; Pereyra‚ I.
Número total de Autores: 4
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Thin Solid Films; v. 425, n. 1, p. 275-281, 2003.
Processo FAPESP: 98/09806-6 - Propriedades eletrônicas e estruturais de óxido e oxi-nitreto de silício amorfo hidrogenado
Beneficiário:Wanderlã Luis Scopel
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 01/06516-1 - Desenvolvimento de dispositivos para óptica integrada utilizando películas dielétricas depositadas por PECVD
Beneficiário:Marco Isaías Alayo Chávez
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado