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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Electrochemical and optical characterization of RF-sputtered thin films of vanadium-nickel mixed oxides

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Autor(es):
Lourenco‚ A. ; Masetti‚ E. ; Decker‚ F.
Número total de Autores: 3
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Electrochimica Acta; v. 46, n. 13, p. 2257-2262, 2001.
Processo FAPESP: 99/07138-9 - Estudo de filmes finos de óxidos mistos de vanádio como armazenadores de íons em dispositivos eletrocrômicos e microbaterias
Beneficiário:Airton Lourenço
Linha de fomento: Bolsas no Exterior - Pesquisa