| Processo: | 99/03779-0 |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Regular |
| Data de Início da vigência: | 01 de fevereiro de 2000 |
| Data de Término da vigência: | 30 de abril de 2005 |
| Área do conhecimento: | Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos |
| Pesquisador responsável: | Roberto Nunes Szente |
| Beneficiário: | Roberto Nunes Szente |
| Instituição Sede: | Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil |
| Assunto(s): | Implantação iônica |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Implantacao | Ionica | Plasma |
Resumo
O projeto "Implantação Iônica Controlada Para Eletrodos de Tochas de Plasma" visa estudar a implantação controlada de íons em superfícies metálicas, particularmente cobre, tendo características inovadoras importantes. O projeto terá como possíveis conseqüências melhorias no comportamento dos metais estudados a serem utilizados em tochas de plasma e o desenvolvimento preliminar de modelos para compreensão das alterações estruturais que ocorrem quando da implantação iônica em uma superfície metálica. (AU)
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