Forno de nitretação iônica com catodos múltiplos

• Processo: 06/53241-1
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa de Apoio à Propriedade Intelectual (PAPI/Nuplitec)
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2006
• Data de Término da vigência: 31 de julho de 2008
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Instalações e Equipamentos Metalúrgicos
• Pesquisador responsável: Daniel Wisnivesky
• Beneficiário: Daniel Wisnivesky
• Vinculado ao auxílio: 03/07872-1 - Construção de uma planta de nitretação de metais usando uma nova tecnologia de plasma pulsado, AP.PIPE
• Assunto(s): Nitretação Plasma (microeletrônica) Fornos Patentes
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Catodos Multiplos | Plasma

Resumo

Nos equipamentos de nitretação iônica a forma do pulso de corrente no forno depende de vários fatores, entre os quais a distribuição de peças e distância da peça ao cátodo. A descarga é um processo dinâmico que em cada pulso se inicia em diferentes regiões do forno. Isso causa diferenças de temperatura nas peças colocadas em diferentes partes do forno e diferenças na camada nitretada nas peças. Este efeito é maior nos fomos de grande porte que é a tendência atual na indústria. A inovação tecnológica apresentada consiste no uso de múltiplos cátodos independentes no forno, junto com uma fonte de corrente pulsada que permite gerar separadamente pulsos de corrente de plasma em cada cátodo segundo as condições especificas da carga distribuída em cada região. (AU)