XXXI congresso brasileiro de aplicações de vácuo na indústria e na ciência

• Processo: 10/10887-4
• Modalidade de apoio: Auxílio Organização - Reunião Científica
• Data de Início da vigência: 26 de setembro de 2010
• Data de Término da vigência: 29 de setembro de 2010
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Metalurgia Física
• Pesquisador responsável: Carlos Roberto Grandini
• Beneficiário: Carlos Roberto Grandini
• Instituição Sede: Faculdade de Ciências (FC). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Bauru. Bauru , SP, Brasil
• Assunto(s): Vácuo
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Indústria | materiais | plasma | Superfícies e Filmes Finos | Vácuo | Metais e Ligas

Resumo

O programa constará da presentação de trabahos na forma oral ou pôster. Contará com a presença de palestrantes convidados do Brasil e do exterior sobre assuntos de fronteira de conhecimento em Ciência e Tecnologia. Também contará com palestras técnicas das empresas expositoras sobre temas, equipamentos e componentes de grande interesse e conteúdo. Procurando fortalecer a formação de recursos humanos, o CBRAVIC2010 contará com mini-cursos satélites sobre tópicos de vanguarda.Palestrantes convidados:Dra. Adriana C. Serquis, Centro Atòmico Bariloche, Argentina; Dr. Jih-Perng Hu, Brookhaven National Laboratory, EUA; Dr. Paul May, University of Bristol, UK; Dr. Gary McGuire, American Vacuum Society, EUA; Dr. Alix Gicquel, Universidade de Paris XIII, CNRS 1311, França; Dr. Daltro Garcia Pinatti, DEMAR-EEL-USP Lorena, Brasil; Dr. Antonio Ricardo Droher Rodrigues, LNLS, Brasil; Dr. Manfredo Harry Tabacniks, Instituto de Física, USP, Brasil; Dr. Carlos Moura Neto, ITA, CTA, Brasil; Dr. Maximiliano Delany Martins, CDTN-CNEN, Brasil; Dr. Adriano Moehlecke, PUC-RGS, Brasil; Dr. João Tavares Pinho, Universidade Federal do Pará, Brasil; Dra. Glória de Almeida Soares, COPPE/UFRJ e Poli/UFRJ, Brasil; Dr. Peter Hatton, Hiden Analytical, UK; Deilton Reis Martins, ELMI-TEC - PFEIFFER, Brasil; Domingos Minucci, EDWARS, Brasil; Ricardo Toshiro Sato, EDWARDS, Brasil; Fernando Zappelini, PREST-VÁCUO, Brasil; Rodrigo Valentim, LABSOLUTIONS, Brasil.Mini-cursos:Ciência e Tecnologia de Vácuo, 12 horas; Tópicos Avançados em Tecnologia de Vácuo, 4 horas; Ciência e Tecnologia de Filmes Finos, 8 horas; Vácuo para Professores e Alunos do Ensino Médio, 8 horas. (AU)