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Emission spectroscopy with high spatial resolution for study of sputtering in reactive plasmas.

Processo: 96/09621-0
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
Data de Início da vigência: 21 de janeiro de 1997
Data de Término da vigência: 24 de janeiro de 1997
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
Pesquisador responsável:Stanislav Moshkalev
Beneficiário:Stanislav Moshkalev
Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Pulverização catódica 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Emission Spectra | Reactive Plasmas | Secondary Photon Emission | Semiconductor Processing | Sputtering
Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre o auxílio:
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