Silicon nitride deposited by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition for micromachining applications.

• Processo: 98/10831-5
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 20 de setembro de 1998
• Data de Término da vigência: 22 de setembro de 1998
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física
• Pesquisador responsável: Roberto Ricardo Panepucci
• Beneficiário: Roberto Ricardo Panepucci
• Instituição Sede: Pessoa Física
• Assunto(s): Diamantes CVD
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Cvd | Ecr | Koh Etching | Mask | Micromaching | Silicon Nitride