Automação e controle de parâmetros e medidas físicas em reatores HFCVD.

• Processo: 08/10067-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Programa Capacitação - Treinamento Técnico
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 2008
• Data de Término da vigência: 31 de outubro de 2009
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Leonidas Lopes de Melo
• Beneficiário: Diego Hudson Campos
• Vinculado ao auxílio: 06/60821-4 - Diamante-CVD para um novo conceito de ferramentas de alto desempenho para perfuração e corte, AP.PIPE
• Assunto(s): Transdutores
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Hot Filament CVD | Transdutores | Reatores de deposição química à vapor (HFCVD)

Resumo

A otimização do processo CVD industrial passa pela definição de um reator escalonado e automatizado, com alto grau de confiabilidade e segurança. Para tanto, estamos trabalhando em uma interface que faça a integração dos dispositivos e transdutores do sistema com um microcontrolador. Com este sistema, esperamos controlar e monitorar todo o processo de deposição CVD via programa de computador. torna-se portanto necessário criar circuitos eletrônicos que façam a conexão adequada entre dispositivos e as interfaces digitais do sistema de aquisição de dados e controle. É dentro deste contexto que será desenvolvido o projeto do bolsista, que trabalhará no desenvolvimento dos circuitos para conectar os dispositivos e transdutores com os as placas de aquisição de dados e controle. No final, todos os subsistemas serão integrados a uma interface de computador que controlará via programa todo o funcionamento de reator HFCVD.