Deposição de Barreiras Contra Difusão por Laser Pulsado de Ampla Área para Células de Óxido Sólido

• Processo: 23/12927-3
• Modalidade de apoio: Bolsas no Exterior - Estágio de Pesquisa - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 15 de dezembro de 2023
• Data de Término da vigência: 14 de março de 2024
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Química
• Pesquisador responsável: Gustavo Doubek
• Beneficiário: Guilherme Gonçalves Silva
• Supervisor: Alberto Tarancon
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Química (FEQ). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Instituição Anfitriã: Institut de Recerca en Energia de Catalunya, Barcelona (IREC), Espanha
• Vinculado à bolsa: 22/16377-5 - Deposição por spin-coater e PVD de Barreiras Contra Difusão Iônica de Co3O4 e 10GDC para uso em Células a Combustível de Óxido Sólido suportadas por metal (SOFCs), BP.IC
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Cgo | diffusion barrier layer | Energy Transition | Pulsed Laser Deposition | Solid Oxide Cells | Nanomateriais e Nanotecnologia

Resumo

Aproveitar adequadamente a energia disponível na natureza de forma sustentável é oferecer à humanidade uma chance de um futuro melhor. O aquecimento global e as recordes emissões de carbono exigem que os esforços para desenvolver tecnologias sustentáveis sejam intensificados.O presente trabalho tem como objetivo auxiliar no desenvolvimento nacional da capacidade de fabricação e estudo de células a combustível de óxido sólido. Esses dispositivos eletroquímicos podem converter combustíveis como hidrogênio, etanol, metanol e monóxido de carbono em eletricidade por meio de um processo sustentável e eficiente.Mais especificamente, focando no uso da Deposição Física a Laser em Área Ampliada (LA-PLD) para criar filmes finos que funcionem como barreiras contra difusão de íons nocivos (DBLs) e que previnam a degradação precoce das células. Além disso, serão utilizadas caracterizações eletroquímicas, como a potenciometria dinâmica, para medir os efeitos da DBL em uma célula em operação.A qualidade dos filmes finos também será avaliada em termos de microestrutura, utilizando Microscópio Eletrônico de Varredura e Difração de Raios-X para identificar a fase cristalina desejada.