| Processo: | 05/55139-7 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Iniciação Científica |
| Data de Início da vigência: | 01 de setembro de 2005 |
| Data de Término da vigência: | 31 de dezembro de 2007 |
| Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica |
| Pesquisador responsável: | Maria Aparecida Zaghete Bertochi |
| Beneficiário: | Ederson Miranda dos Santos |
| Instituição Sede: | Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araraquara. Araraquara , SP, Brasil |
| Vinculado ao auxílio: | 04/14932-3 - Influência da texturização e de defeitos cristalinos nas propriedades ferroelétricas de filmes finos e cerâmicos, AP.TEM |
| Assunto(s): | Óxido de estanho Degradação |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Barreira De Potencial | Degradacao | Dopantes | Oxido De Estanho | Varistor De Oxido De Titanio | Varistores De Baixa Tensao |
Resumo Os varistores de SnO2 possuem vantagens em relação aos de ZnO como microestrutura mais simples e resistência a degradação. No entanto, têm-se algumas dificuldades para fabricar varistores de SnO2, visando sua aplicação em microeletrônica (baixas tensões). Desta forma pretende-se preparar filmes à base de SnO2 dopado com os óxidos geradores de propriedades varistoras. Os filmes serão depositados em substratos de Silício/Platina, ITO e alumina, tratados termicamente em diferentes atmosferas, com o objetivo de estudar a influência do eletrodo inferior e da atmosfera nas propriedades elétricas e microestruturais. Os materiais serão preparados por duas metodologias: (1) O pó obtido por mistura de óxidos será suspenso em uma resina orgânica, para controlar a viscosidade e (2) Método dos Precursores Poliméricos (Pechini). Os filmes obtidos serão caracterizados morfológica e estruturalmente pelas técnicas DRX e MEV/EDS. Em relação às propriedades elétricas serão feitas medidas em corrente contínua para a determinação das curvas E vs J (Campo elétrico vs densidade de corrente) e cálculos dos parâmetros associados como: coeficiente de não-linearidade (α), campo elétrico de ruptura (Er), corrente de fuga (If) e voltagem por barreira (Vg). Espectroscopia de impedância será utilizada para calcular parâmetros como altura (fb) e largura (W) da barreira de potencial formada no contorno de grão, densidade de portadores de carga livre (Nd), densidade de estados superficiais (Ns) e resistência do contorno de grão entre outros. (AU) | |
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