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Caracterizacao eletrica da eficiencia da limpeza quimica inicial e oxidacao termica de porta atraves de capacitores mos.

Processo: 03/05398-0
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Data de Início da vigência: 01 de setembro de 2003
Data de Término da vigência: 30 de junho de 2004
Área de conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Medidas Elétricas, Magnéticas e Eletrônicas, Instrumentação
Pesquisador responsável:Victor Sonnenberg
Beneficiário:Cesar Augusto Alves de Souza
Instituição Sede: Faculdade de Tecnologia São Paulo (FATEC São Paulo). Centro Paula Souza (CEETEPS). Secretaria de Desenvolvimento Econômico (São Paulo - Estado). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Silício policristalino
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Capacitor Mos | Curva C-T | Curva C-V | Silicio Policristalino

Resumo

Neste trabalho serão fabricados capacitores MOS com porta de silício policristalino em várias condições de oxidação e limpeza química. Serão realizadas medidas da curva capacitância-tensão (C-V) e capacitância-tempo (C-t) destes capacitores para caracterizar a qualidade dos dispositivos e, principalmente, para as diversas condições de processamento (oxidação/limpeza) para a otimização do mesmo. (AU)

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