Deposição de diamante CVD sobre WC-Co: estudo do ataque químico e da migração do cobalto

• Processo: 95/09865-4
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de março de 1996
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 1999
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Evaldo Jose Corat
• Beneficiário: Leticia Wieliwicki de Resende
• Instituição Sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição de filmes finos Diamantes CVD Cobalto
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Ataque Quimico | Carbeto De Tungstenio | Cobalto | Diamante Cvd | Ferramenta De Corte

Resumo

Neste trabalho será estudada a deposição de diamante-CVD sobre substratos de WC-Co. Será feito estudo da dinâmica do processo de ataque químico para remoção do cobalto superficial e também do processo de migração do cobalto durante o crescimento de diamante. O objetivo é encontrar a dependência destes processos nos parâmetros de preparação do substrato e crescimento de diamante. Com isto, pretende-se procurar condições em que o compromisso entre a fragilização provocada pelo ataque químico e a aderência do filme forneçam ferramentas de corte de WC-Co com depósito de diamante com um tempo de vida razoável. A análise das amostras será feita por microscopia eletrônica de varredura e espectroscopia Raman. (AU)