Síntese e caracterização de filmes finos óxidos depositados a plasma

• Processo: 10/00572-6
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2010
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2011
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: José Roberto Ribeiro Bortoleto
• Beneficiário: Michel Chaves
• Instituição Sede: Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus Experimental de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 08/53311-5 - Sintese e integracao de nanoestruturas, filmes finos e superficies modificadas., AP.JP
• Assunto(s): Filmes finos Óxidos Microscopia
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes finos | microscopia | oxidos | síntese a plasma | Filmes Finos

Resumo

Este plano de atividades prevê síntese e a caracterização morfológica e óptica de filmes finos baseados no óxido de zinco. A deposição dos filmes finos será feita através de técnicas a plasma ou PECVD sobre substratos transparentes na região do visível. A análise morfológica será realizada por microscopia de força atômica (AFM). Já o grau de transparência óptica dos filmes de óxido de zinco por medidas de transmitância. Os resultados de AFM e transparência serão correlacionados com as condições de crescimento, principalmente temperatura do substrato, potência e pressão da descarga elétrica e composição dos precursores.