Microdispositivos de emissão de campo a vácuo

• Processo: 00/08493-6
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Jovens Pesquisadores
• Data de Início da vigência: 01 de setembro de 2000
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2003
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Marco Antonio Robert Alves
• Beneficiário: Marco Antonio Robert Alves
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 00/04585-3 - Microdispositivos de emissão de campo a vácuo, AP.JP
• Assunto(s): Processos de fabricação Vácuo Dispositivos eletrônicos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Emissao De Campo | Microdiodo | Microtriodo | Plasma | Processos De Fabricacao | Vacuo

Resumo

O objetivo deste projeto é o desenvolvimento dos processos de fabricação e o estudo do comportamento físico de microdispositivos de emissão de campo a vácuo. Dentre os microdispositivos que pretendemos fabricar estão os "arrays" de ponteiras de emissão de campo, microdiodos e microtriodos. O projeto propriamente dito pode ser dividido em três partes: 1-) Estudo e desenvolvimento dos processos de corrosão (úmida e seca) do silício para a fabricação de ponteiras de emissão de elétrons. As ponteiras fabricadas no silício serão utilizadas como ponteiras de emissão (parte ativa do dispositivo) ou também como substrato para a fabricação de ponteiras de emissão com outros materiais (W, Ta, Pt, carbono amorfo). 2-) Desenvolvimento dos processos de fabricação e caracterização elétrica de microdiodos à vácuo. 3-) Desenvolvimento dos processos de fabricação e caracterização elétrica de microtriodos à vácuo. O objetivo dos itens 2 e 3, é obter dispositivos que possam operar com baixa tensão de polarização, alta densidade de corrente de emissão, alta freqüência de corte, baixo ruído, longo tempo de vida e estabilidade de emissão. (AU)