Estudo de aderência e tensões intrínsecas e extrínsecas entre filmes finos de diamante-CVD de alta pureza e de alta taxa de nucleação e ligas de titânio

• Processo: 99/06157-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de abril de 2000
• Data de Término da vigência: 31 de março de 2004
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Vladimir Jesus Trava-Airoldi
• Beneficiário: Adriana Faria Azevedo
• Instituição Sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Diamante-Cvd | Filmes Finos | Guia De Onda | Interface | Plasma De Microondas | Tribologia

Resumo

Este projeto de pesquisa objetiva, principalmente, em dar continuidade ao de mestrado em fase conclusiva e cujo resultados sugerem um lastro maior de estudos com aprofundamento bastante justificado. Está diretamente relacionado com estudos de filmes finos e auto sustentados de Diamante-CVD de granulometria ultra fina, alta aderência em diferentes substratos, utilizando o sistema Surfatron. Esta técnica tem demonstrado ser importante para investigações básicas, além de ser possível obter filmes puros com baixa contaminação proveniente do processo de deposição, abrindo uma nova frente de estudos. Com o domínio desta técnica, objetiva-se a obtenção de filmes bastante puros, onde será dado ênfase ao entendimento dos fenômenos que produzem tensões na interface entre o filme e o substrato, bem como no "bulk" do filme para aplicação de alta confiabilidade e alta durabilidade, como as espaciais e biológicas. Será uma importante parte deste trabalho, a vasta utilização das técnicas de caracterização, tais como, XPS, AFM, Raman, MEV, etc. (AU)