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PROCESSO PARA MELHORAR A ADERÊNCIA DE FILMES FINOS DEPOSITADOS PELO PROCESSO PECVD EM EMBALAGENS PET E EMBALAGEM RESULTANTE

Tipo de documento:Patente
Inventor(es): Maria Zanin; Sandra Andrea Cruz; Mário Antônio Bica de Moraes
Depositante: Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP) ; Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP) ; Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR)
Data do depósito: 28 de fevereiro de 2005
Registro INPI:
PI0500712-7
IPC: B29B 13/08 C23C 16/513 C23C 16/26 B29C 59/14 C23C 14/28 H05H 1/03 B29B 17/02 B29C 49/06 C08J 7/18 B32B 27/36
Resumo

"PROCESSO PARA MELHORAR A ADERÊNCIA DE FILMES FINOS DEPOSITADOS PELO PROCESSO PECVD EM EMBALAGENS PET E EMBALAGEM RESULTANTE". É descrito um processo para melhorar a aderência de filmes finos depositados pelo processo PECVD em embalagens PET que compreende aplicar à dita embalagem um tratamento com plasma de oxigênio e posterior aplicação de filme de PECVD. O tratamento com plasma objetiva promover a incorporação de grupos funcionais, aumentar a rugosidade da superfície e promover o ancoramento do filme a ser depositado, pelo que será melhorada a adesão entre a embalagem e o filme de carbono a ser depositado. O plasma de carbono amorfo hidrogenado é produzido com gases acetilenolargônio utilizando um sistema que consiste de uma câmara de vácuo ou reator (1) dotada de eletrodos (2a, 2b) ligados a uma fonte (6) de tensão elétrica para geração do plasma, o plasma de descarga luminescente sendo produzido na câmara (1) e atuando sobre o substrato (3), um sistema de bombeamento (5) para a produção de vácuo na câmara (1), um sistema de alimentação dos gases (4) à câmara, o plasma sendo gerado pela aplicação de um campo elétrico contínuo entre os eletrodos (2a, 2b) nos gases precursores a baixa pressão. A embalagem PET com aderência melhorada ao filme de carbono também é descrita.


Processo FAPESP: 04/06858-8 - Embalagens de PET tratadas com plasma de oxigênio para melhora de adesão com posterior recobrimento com filme de carbono amorfo
Beneficiário:Maria Zanin
Pesquisador responsável:Maria Zanin
Instituição: Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET)
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa de Apoio à Propriedade Intelectual (PAPI/Nuplitec)