Resumo
Neste trabalho será caracterizado ura sistema de deposição de filmes dielétricos por plasmas de alta densidade, esta caracterização inclui a verificação das limitações do sistema de deposição em função dos parâmetros de processo (pressão, vazão dos gases). Além disso também serão caracterizados os filmes depositados, em especial os filmes de carbono tipo diamante (DLC), quanto a sua compo…