Resumo
Os objetivos deste projeto são: a) familiarizar-se com os processos de deposição de filmes finos de silício amorfo hidrogenado e silício amorfo hidrogenado dopado. b) participar das modificações do sistema PECVD (atual) para o HWCVD. b) caracterizar os filmes depositados e levantar um banco de dados sobre o processo de deposição. c) a partir do banco de dados, realizar simulações de efeit…