Resumo
Neste projeto, pretende-se realizar a caracterização dos defeitos gerados na rede cristalina de materiais semicondutores, como por exemplo, Si e GaAs, pelo processo de implantação iônica, utilizando técnicas de difração de raios-X em geometrias de alta resolução. Análises com curvas de rocking, difratometria de triplo-eixo e principalmente a difração múltipla de raios-X serão realizadas, …