Resumo
A fabricação de dispositivos semicondutores para microeletrônica, optoeletrônica e micromecânica requer a definição de padrões geométricos com grande precisão. Esta etapa pode ser feita através de litografia óptica (ou fotogravação) utilizando uma máscara, ou diretamente no substrato, utilizando-se a técnica de litografia por feixe de elétrons. Para à fotogravação, é necessária a confecçã…