Resumo
Neste projeto será feito um estudo de plasmas fluorados acoplados indutivamente (inductively coupled plasmas - ICP) Estes plasmas têm a grande vantagem sobre plasmas tipo "Reactive lon Etching - RIE" que a densidade do plasma é muito maior. Desta maneira, processos de corrosão com melhores características podem ser obtidos com estes plasmas tipo ICP. Serão analisados plasmas a base de CF4…