Resumo
O projeto proposto envolve a deposição, caracterização e otimização de uma película de nitreto de silício a ser utilizada como camada anti-refletora e contribuir para a passivação de defeitos na região frontal da célula solar. A película de nitreto de silício será depositada em um reator do tipo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Os efeitos da deposição da película de nitr…