Resumo
Pretende-se a análise de transição de não caos para caos em mecânica, e a utilização de controle de caos com vistas às aplicações em problemas reais de engenharia. (AU)
Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM) (Instituição Sede da última proposta de pesquisa) País de origem: Brasil
Graduação em Física pela UNESP. Mestrado em Engenharia Elétrica pela UNICAMP e Doutorando em Engenharia Elétrica pela UNICAMP. Atualmente é Professor Adjunto da USF e Professor Assistente II nas FATECs de Itu e Mogi Mirim. Tem experiência na área de Física, com ênfase em Física Clássica; Mecânica e Campos. Atua principalmente com Eletromagnetismo (Linhas de Transmissão e RF) e Microeletrônica - dispositivos semicondutores, Tecnologia SOI CMOS. (Fonte: Currículo Lattes)
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Pretende-se a análise de transição de não caos para caos em mecânica, e a utilização de controle de caos com vistas às aplicações em problemas reais de engenharia. (AU)
Será feito um estudo de processos de deposição de filmes de SiO2 e de Si3N4 por CVD em 2 modos de operação: RTCVD (Rapid Thermal CVD) e RPECVD, (Remote Plasma Enchanced CVD). Os processos e filmes serão caracterizados quanto A: taxa de deposição, estequiometria, densidade, índice de refração, uniformidade, defeitos e stress. Em seguida será feito um estudo da interface entre isolante/GaAs…
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