Resumo
O objetivo do projeto é estudar a corrosão química de filmes de a-Si1-xCx:H obtidos pela técnica de PECVD ("Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition"). A motivação é viabilizar a fabricação de dispositivos semicondutores a base deste material, já que mesmo os dispositivos mais simples requerem técnicas de corrosão eficiente e seletiva do a-SiC:H para definir as geometrias requeridas. Em …