Resumo
Este trabalho tem como objetivo fundamental o estudo e o desenvolvimento de filmes finos de óxido de silício, depositados por PECVD, para serem aplicados em microestruturas e sensores como micro-filtros, camada de adsorção de produtos orgânicos e outros. O processo PECVD é amplamente utilizado na microeletrônica e que, por suas características intrínsecas, pode ser modificado (alterando-s…