Resumo
O presente projeto trata do desenvolvimento de processos de deposição de filmes finos e ultra-finos de óxido, oxinitreto e nitreto de silício em substratos semicondutores, com tecnologia RPCVD, RPO e RPN e sua caracterização, visando a otimização do processo e sua repetibilidade. Pretende-se desenvolver todo o potencial do sistema RP para o crescimento por oxidação (RPO), nitretação (RPN)…