Resumo
O presente trabalho tem como objetivo o desenvolvimento de processo de deposição por plasma, em equipamento adequado a deposição em superfícies assimétricas, como é o caso de pós, por exemplo. O filme a ser depositado deverá ser hidrofóbico e resistente a corrosão por ácidos e bases. O substrato a ser utilizado para, o acerto de processo deverá ser o silício enquanto que a superfície a se…