Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP) (Instituição Sede da última proposta de pesquisa) País de origem: Brasil
Celso Fonseca Alfano em auxílios à pesquisa e bolsas apoiadas pela FAPESP.
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Este trabalho tem por objetivo a obtenção de filmes de óxido de silício para serem aplicados como camada sacrificial em microfabricação de dispositivos. Os filmes serão obtidos por deposição química a vapor enriquecida por plasma (PECVD), através da reação de tetraetilortosilicato (TEOS) e oxigênio. (AU)
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