Wagner Henrique Rabelo em auxílios à pesquisa e bolsas apoiadas pela FAPESP.
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O projeto consiste na conclusão do protótipo comercial de uma fonte de potência (300W), de corrente alternada (600 VAC), operando entre 10 a 40 kHz, responsável por iniciar e sustentar o campo elétrico utilizado para a geração do plasma. Esta fonte será utilizada para a deposição de filmes finos por meio da técnica de magnetron sputtering sendo uma alternativa à tecnologia em rádio frequê…
O avanço das técnicas de deposição de filmes finos sobre as superfícies dos materiais tem permitido agregar valor e dar novas funcionalidades aos produtos. Atualmente, os filmes finos têm encontrado grande aplicação no mercado. Entretanto, hoje a técnica de deposição mais utiliza é com fonte de energia em RF (Rádio Frequência), que apresenta um custo elevado e maior complexidade de instal…
| 1 | Auxílios à pesquisa concluídos |
| 1 | Bolsas no país concluídas |
| 2 | Todos os Auxílios e Bolsas |
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CV Lattes