Resumo
O desenvolvimento de novos materiais para aplicações tecnológicas tem alcançado avanços significativos nas áreas e deposição de filmes finos dielétricos. Técnicas como a deposição por laser pulsado, deposição de camada atômica, epitaxia por feixe molecular e sputtering reativo têm sido sistematicamente estudadas para obtenção de materiais com características aprimoradas para determinadas …