William Alex da Silva Magalhães

CV Lattes ORCID

Universidade Federal de São Paulo (UNIFESP). Campus São José dos Campos. Instituto de Ciência e Tecnologia (ICT) (Instituição Sede da última proposta de pesquisa)
País de origem: Brasil

William Alex da Silva Magalhães em auxílios à pesquisa e bolsas apoiadas pela FAPESP.

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Resumo
Muitos materiais, considerados pobres em termos de aplicações, podem se tornar muito ricos em caso de modificações de suas superfícies, seja por incorporação de novos elementos em sua estrutura ou pela simples deposição de um material protetor, ou ainda a soma destes dois procedimentos. Uma técnica consagrada na equipe, a PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) com catodo adicio…
Otimização dos parâmetros de deposição de interface em estudos de deposição filmes de DLC em superfície complexa de materiais metálicos usando PECVD modificada, BP.IC

BV em números * Dados atualizados em 16/02/2026

1	Bolsas no país concluídas

Processos vinculados

Palavras-chave utilizadas pelo pesquisador

Aderência Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Engenharia de Materiais e Metalúrgica Engenharias Filmes finos Interface Materiais Não-metálicos Materiais metálicos

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