Resumo
Pretende-se neste trabalho produzir filmes finos através de uma nova técnica de impregnação forçada de óxidos utilizando pressão elevada. Através de forno na forma de protótipo industrial, serão obtidos filmes finos de titanato de cálcio e cobre (CCTO) em substrato de silício com diferentes eletrodos, como platina e óxidos metálicos condutores (LaNiO3, La0,5Sr0,5CoO3 e RuO2). A síntese do…