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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Development of Nb2O5-doped ZnO/Carbon xerogel photocatalyst for the photodegradation of 4-chlorophenol

Texto completo
Autor(es):
de Moraes, Nicolas Perciani [1] ; dos Santos, Gabriela Spirandelli [1] ; Neves, Gabriel Costa [1] ; Valim, Ricardo Bertholo [1] ; Rocha, Robson da Silva [1] ; Landers, Richard [2] ; Caetano Pinto da Silva, Maria Lucia [1] ; Rodrigues, Liana Alvares [1]
Número total de Autores: 8
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Escola Engn Lorena EEL USP, Estr Municipal Campinho S-N, BR-12602810 Lorena, SP - Brazil
[2] Univ Estadual Campinas, Inst Fis Gleb Wataghin, 500 Ave Albert Einstein, BR-13083852 Campinas, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 2
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: OPTIK; v. 219, OCT 2020.
Citações Web of Science: 0
Resumo

This work evaluates the properties of a new Nb2O5-doped ZnO/carbon xerogel photocatalyst and its efficiency for the degradation of 4-chlorophenol under solar radiation. The development of this material is aimed at diminishing charge recombination during the photocatalytic process. The diffractograms obtained confirm the presence of the hexagonal zinc oxide structure in all samples, whereas the X-ray photoelectron spectroscopy confirms the presence of Nb2O5 on the structure of the ternary photocatalyst. The higher specific surface area of the Nb2O5-doped material, as well as the lower value of gap energy, can be ascribed to the presence of the newly incorporated metallic oxide into the structure of the materials, along with the carbon xerogel. The photocatalytic tests results show that the material with Nb2O5 in its composition exhibited superior efficiency in the degradation of 4-chlorophenol under simulated solar radiation, obtaining a much higher apparent reaction rate constant. Furthermore, the modification impacts the photocatalytic mechanism, which becomes greatly dependent on the hydroxyl radical. (AU)

Processo FAPESP: 18/12035-7 - Propriedades mecânicas e antimicrobianas de nanocompósito Ag/PMMA
Beneficiário:Gilmar Patrocínio Thim
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Regular
Processo FAPESP: 17/10118-0 - Estudo e aplicação da tecnologia eletroquímica para a análise e a degradação de interferentes endócrinos: materiais, sensores, processos e divulgação científica
Beneficiário:Marcos Roberto de Vasconcelos Lanza
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático
Processo FAPESP: 18/10492-1 - Desenvolvimento e avaliação de heterojunções semicondutor/ZnO/xerogel de carbono na fotodegradação de 4-clorofenol em reator de leito fluidizado e em reator em batelada
Beneficiário:Liana Alvares Rodrigues
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Regular
Processo FAPESP: 13/02762-5 - Desenvolvimento de tecnologias de prevenção à poluição: degradação e monitoramento on-line de antibióticos em esgotos
Beneficiário:Robson da Silva Rocha
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Processo FAPESP: 18/16360-0 - Desenvolvimento de compósitos ternários ZnO/Bi2O3/Xerogel de carbono como fotocatalisadores para a degradação de poluentes orgânicos persistentes
Beneficiário:Nicolas Perciani de Moraes
Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Doutorado