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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Microstructural and transport properties of LaNiO3- δ films grown on Si (111) by chemical solution deposition

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Autor(es):
Escote‚ MT ; Pontes‚ FM ; Leite‚ ER ; Varela‚ JA ; Jardim‚ RF ; Longo‚ E.
Número total de Autores: 6
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Thin Solid Films; v. 445, n. 1, p. 54-58, 2003.
Processo FAPESP: 99/10798-0 - Estudo de fenômenos intergranulares em óxidos cerâmicos
Beneficiário:Reginaldo Muccillo
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Temático