Materiais Avançados para Aplicações em Fotônica

• Processo: 24/19274-8
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2025
• Data de Término da vigência: 31 de janeiro de 2027
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Proposta de Mobilidade: SPRINT - Projetos de pesquisa - Mobilidade
• Pesquisador responsável: Euclydes Marega Junior
• Beneficiário: Euclydes Marega Junior
• Pesquisador Responsável no exterior: Shuiqing Yu
• Instituição Parceira no exterior: University of Arkansas, Estados Unidos
• Instituição Sede: Instituto de Física de São Carlos (IFSC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
• Pesquisadores associados: Marcio Daldin Teodoro
• Vinculado ao auxílio: 21/03311-3 - Regime extremo da interação de luz-matéria em estruturas plasmônicas acopladas com materiais 2D, AP.R
• Assunto(s): Nanofotônica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Nanophotonics | plasmonics | 2D Semiconductor Materials | Nanofotônica

Resumo

A colaboração entre os parceiros brasileiros e os pesquisadores do Institute of Nanoscience and Engineering da Universidade de Arkansas (NanoUark) já esta estabelecidade há vinte anos. Junto com o Prof. Greg Salamo temos neste período publicados cerca de 50 trabalhos em revistas científicas indexadas, três capítulos de livros e o intercambio de oito estudantes e pos-doutores brasileiros no estudo de semicondutores do grupo III-V obtidos pela técnica de epitaxia por feixes moleculares. O Instituto NanoUark possui um laboratório de crescimento epitaxial com a possibilidade de crescimento de diversos tipos de material e mais recentemente vem se dedicando aos cresimento epitaxial de materiais bidimensionais (GaSe e GeSe) pela técnica de epitaxia por feixes moleculares (MBE) e compostos do grupo IV (Si)GeSn. Estes materiais tem potencial aplicação na área de fotônica como emissores quânticos e fotosensores nas regiões do visível e infravermelho. Nos últimos anos os laboratórios do IFSC e UFSCar vem se dedicando ao processamento e caracterização de materiais fotônicos com a participação em projetos multiusuários (22/10340-2 e 22/11526-2) que irão permitir melhorar ainda mais as pesquisas nestas área com possíveis aplicações em nanofotônica. No ano de 2020 iniciamos colaboração com o grupo do prof. Andras Kis (EPFL - Suiça) no estudo de regimes intensos de interação entre materiais 2D, no caso MoS2 e WS2 (obtidos através de esfoliação após crescimento pela técnica de CVD) e metasuperfícies plasmônicas. Esta colaboração resultou na atual proposta, a que esta se vinculada (21/03311-03) e que visa abranger materiais 2D obtidos por MBE com propriedades ópticas equivalentes ao TMDC obtido por CVD e transferido ao substrato. O estudo das propriedades ópticas nas proximidades de estruturas plasmonicas pode resultar em efeitos de acoplamento forte entre luz-matéria. (AU)