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Desenvolvimento de novos materiais quartzo e filmes de diamante: caracterização por difração de raios-X

Processo: 95/02738-7
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Regular
Data de Início da vigência: 01 de janeiro de 1996
Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 1997
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
Pesquisador responsável:Carlos Kenichi Suzuki
Beneficiário:Carlos Kenichi Suzuki
Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Filmes finos de diamante  Quartzo  Sílica vítrea  Difração por raios X  Espalhamento de raios X a baixos ângulos 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Difracao De Raios-X | Espalhamento De R-X Baixo Angu | Filmes De Diamante | Quartzo Sintetico | Silica Vitrea | Topografia De Raios-X

Resumo

O projeto da ênfase aos trabalhos de caracterização estrutural de Novos Materiais Quartzo e Diamante por Difratometria (varredura teta-2teta), Topografia de Dupla Reflexão, e Espalhamento a Baixo Ângulo de Raios-X. De especial importância é o desenvolvimento de 21 teses de Mestrado e Doutorado atualmente em andamento no Depto. de Engenharia de Materiais da Faculdade de Engenharia Mecânica, UNICAMP, que dependem fortemente da caracterização por técnicas de raio-X propostas neste projeto. A utilização do espalhamento de raios-X à baixo ângulo será vital para o desenvolvimento das propriedades mecânicas e ópticas de sílica vítrea para aplicação em fibras ópticas. A topografia de raios-X será essencial para o entendimento e desenvolvimento de novas propriedades em quartzo sintético. (AU)

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