Estudo de interfaces aplicadas por laser cladding para deposição de diamante CVD

• Processo: 13/25939-8
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de maio de 2014
• Data de Término da vigência: 31 de março de 2017
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Evaldo Jose Corat
• Beneficiário: Andre Contin
• Instituição Sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 12/15857-1 - Estudos científicos e aplicações inovadoras em diamante-CVD, Diamond-Like Carbon (DLC) e carbono nanoestruturado, obtidos por deposição química na fase vapor, AP.TEM
• Assunto(s): Ferramentas de corte Aço inoxidável Diamantes CVD Deposição de filmes finos Difração por raios X
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Aço inox | Diamante CVD | Ferramentas de corte | Laser Cladding | Micro e nanodiamante | WC-TiC-Co | Diamante CVD

Resumo

O emprego de filmes de diamante CVD em ferramentas de corte é uma aplicação de grande interesse devido às suas propriedades ímpares. Seu uso visa aumentar a vida útil da ferramenta, além de obter aumentos significativos na velocidade de usinagem, devido ao baixo coeficiente de atrito do diamante. Portanto uma baixa razão custo-benefício do recobrimento com diamante sintético é almejada, apesar das dificuldades ainda encontradas para essa tecnologia. Este projeto objetiva depositar filmes de diamante CVD aderentes em substratos de aço inox 304, aço rápido e metal duro (WC-TiC-Co); utilizando uma nova técnica de formação de barreira intermediária, realizada pelo processo de laser cladding; o pó básico a ser utilizado é o carbeto de silício (SiC). Como parte dos estudos está proposta a utilização de um ligante na camada sinterizada. As amostras serão submetidas ao processo de semeadura com pó de diamante. A deposição dos filmes de diamante será realizada utilizando um reator HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition) com diferentes concentrações de gases para filmes microcristalinos e nanocristalinos. Será observada a melhoria da adesão de filmes de diamante nos substratos, avaliada por testes de indentação e usinagem. As amostras serão caracterizadas por microscopia eletrônica de varredura (MEV) para análise qualitativa dos filmes de diamante. Difração de raios X será utilizada para a identificação das fases depois do processo de laser cladding. A tensão residual compressiva do filme será estudada por espectroscopia Raman. O ensaio de "micro-scratching" será realizado para medir o nível de aderência da camada de carbeto de silico sobre os substratos. (AU)

Publicações científicas

(5)

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

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