| Processo: | 13/25939-8 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Doutorado |
| Data de Início da vigência: | 01 de maio de 2014 |
| Data de Término da vigência: | 31 de março de 2017 |
| Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos |
| Pesquisador responsável: | Evaldo Jose Corat |
| Beneficiário: | Andre Contin |
| Instituição Sede: | Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil |
| Vinculado ao auxílio: | 12/15857-1 - Estudos científicos e aplicações inovadoras em diamante-CVD, Diamond-Like Carbon (DLC) e carbono nanoestruturado, obtidos por deposição química na fase vapor, AP.TEM |
| Assunto(s): | Ferramentas de corte Aço inoxidável Diamantes CVD Deposição de filmes finos Difração por raios X |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Aço inox | Diamante CVD | Ferramentas de corte | Laser Cladding | Micro e nanodiamante | WC-TiC-Co | Diamante CVD |
Resumo O emprego de filmes de diamante CVD em ferramentas de corte é uma aplicação de grande interesse devido às suas propriedades ímpares. Seu uso visa aumentar a vida útil da ferramenta, além de obter aumentos significativos na velocidade de usinagem, devido ao baixo coeficiente de atrito do diamante. Portanto uma baixa razão custo-benefício do recobrimento com diamante sintético é almejada, apesar das dificuldades ainda encontradas para essa tecnologia. Este projeto objetiva depositar filmes de diamante CVD aderentes em substratos de aço inox 304, aço rápido e metal duro (WC-TiC-Co); utilizando uma nova técnica de formação de barreira intermediária, realizada pelo processo de laser cladding; o pó básico a ser utilizado é o carbeto de silício (SiC). Como parte dos estudos está proposta a utilização de um ligante na camada sinterizada. As amostras serão submetidas ao processo de semeadura com pó de diamante. A deposição dos filmes de diamante será realizada utilizando um reator HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition) com diferentes concentrações de gases para filmes microcristalinos e nanocristalinos. Será observada a melhoria da adesão de filmes de diamante nos substratos, avaliada por testes de indentação e usinagem. As amostras serão caracterizadas por microscopia eletrônica de varredura (MEV) para análise qualitativa dos filmes de diamante. Difração de raios X será utilizada para a identificação das fases depois do processo de laser cladding. A tensão residual compressiva do filme será estudada por espectroscopia Raman. O ensaio de "micro-scratching" será realizado para medir o nível de aderência da camada de carbeto de silico sobre os substratos. (AU) | |
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