| Processo: | 01/05382-1 |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Regular |
| Data de Início da vigência: | 01 de agosto de 2001 |
| Data de Término da vigência: | 31 de julho de 2007 |
| Área do conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos |
| Pesquisador responsável: | Nicole Raymonde Demarquette |
| Beneficiário: | Nicole Raymonde Demarquette |
| Instituição Sede: | Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil |
| Bolsa(s) vinculada(s): | 01/13640-0 - Estudo e desenvolvimento de processos de deposição química a vapor enriquecida por plasma utilizando organo-silanos como reagentes, BP.TT |
| Assunto(s): | Deposiçăo por plasma Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Organossilanos |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Deposicao Por Plasma | Organosilanos |
Resumo
O projeto tem como objetivo o estudo e desenvolvimento de processos de modificação de superfícies, utilizando, para tal fim, a deposição por plasma - PECVD (Plasma Enhanced Vapor Deposition), de organo-silanos. As propriedades dos filmes a serem obtidos deverão ser controladas de acordo com as aplicações desejadas. Este projeto visa à continuação das pesquisas, em andamento, em modificação de superfícies, utilizando dois reatores a plasma que foram montados no Departamento de Engenharia Metalúrgica e de Materiais da Escola Politécnica da USP (Processo FAPESP 95/09287-0). O projeto de pesquisa tem uma previsão de duração de dois anos e programa a participação de quatro alunos de iniciação científica e de dois de mestrado. (AU)
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