Crescimento de diamante-CVD em grandes áreas em reator assistido por filamento quente

• Processo: 03/08930-5
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de dezembro de 2003
• Data de Término da vigência: 30 de novembro de 2005
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: João Roberto Moro
• Beneficiário: João Roberto Moro
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia. Universidade São Francisco (USF). Campus Itatiba. Itatiba , SP, Brasil
• Assunto(s): Diamantes CVD Reatores e transformadores Filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Crescimento | Diamante Cvd | Filamento Quente | Filme Fino E Espesso | Reator De Grande Porte

Resumo

O crescimento de diamante por deposição química a partir da fase vapor (CVD, do inglês Chemical Vapor Deposition) vem sendo muito estudado nas últimas décadas. Estes estudos têm evoluído tanto em pesquisa básica, como nos desenvolvimentos da tecnologia do crescimento do diamante CVD. Vários são os métodos de crescimento do diamante CVD, mas a técnica CVD assistida por filamento quente tem um relativo baixo custo de montagem, operacionalidade e manutenção. Esta técnica é a mais consagrada e utilizada no escalonamento industrial para várias aplicações. Assim, esta será a técnica utilizada e desenvolvida neste projeto. O principal objetivo será estudar o crescimento de diamante CVD em substratos de silício, molibdênio, nióbio e cobre entre outros, com áreas entre 80 cm2 e 100 cm2 e espessuras de pelo menos 0,200 milímetros. A modificação de um reator de grande porte assistido por filamento quente será também parte importante do projeto. Deseja-se trazer o estudo do crescimento de diamante em grandes áreas, associado ao problema de escalonamento do sistema assistido por filamento quente, a inovação para se evoluir em estudos de eliminação de "stress" intrínsecos e extrínsecos que aparecem nos filmes finos e espessos de diamante-CVD, crescidos em substratos de grandes áreas. (AU)

Publicações científicas

(5)

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

MORO‚ J.R.; TRAVA-AIROLDI‚ V.J.; CORAT‚ E.J.; NETO‚ J.E.; AMORIM‚ A.; ALVES‚ A.R.. Crescimento de diamante CVD em substratos de silício de grande área. Rem: Revista Escola de Minas, n. 2, p. 279-285, 2010. (03/08930-5)

FUJIY‚ O.K.; TRAVA-AIROLDI‚ V.J.; CORAT‚ E.J.; FERREIRA‚ M.J.; AMORIM‚ A.; MORO‚ J.R.. Taxa de crescimento de filmes de diamante CVD em superfícies de molibdênio. Rem: Revista Escola de Minas, n. 2, p. 227-231, 2007. (03/08930-5)

AMORIM, A.; NASCENTE, P. A. P.; TRAVA-AIROLDI, V. J.; CORAT, E. J.; ALVES, A. R.; MORO, J. R.. Two-step growth of HFCVD diamond films over large areas. VACUUM, v. 83, n. 7, p. 1054-1056, MAR 24 2009. (03/08930-5)

A.R. ALVES; A. AMORIM; J. EICHENBERGER NETO; V.J. TRAVA-AIROLDI; E.J. CORAT; J.R. MORO. Filmes de diamante CVD em grandes áreas obtidos por crescimentos sucessivos em etapas. MATERIA-RIO DE JANEIRO, v. 13, n. 3, p. 569-578, 2008-09-00. (03/08930-5)

OSWALDO KAZUSHI FUJIY; VLADIMIR JESUS TRAVA-AIROLDI; EVALDO JOSÉ CORAT; MARCELO JUNI FERREIRA; AMAURÍ AMORIM; JOÃO ROBERTO MORO. Taxa de crescimento de filmes de diamante CVD em superfícies de molibdênio. Rem: Revista Escola de Minas, v. 60, n. 2, p. 227-231, 2007-06-00. (03/08930-5)