Pesquisa e desenvolvimento de filmes finos e autosustentados de diamante-CVD de granulametria fina: alta transparência óptica e alta aderência em vários tipos de substratos, inclusive metálicos

• Processo: 96/00019-6
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de julho de 1996
• Data de Término da vigência: 31 de março de 1999
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Vladimir Jesus Trava-Airoldi
• Beneficiário: Vladimir Jesus Trava-Airoldi
• Instituição Sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Auxílio(s) vinculado(s): 00/14489-1 - Relatório descritivo da patente de invenção Brocas em Diamante CVD para Equipamento de ultra-som empregadas em Odontologia e Usos Relacionados para Perfurações ou Uso Abrasivo de Desgaste em Geral, AP.PAPI
• Assunto(s): Materiais não metálicos Filmes finos Plasma (microeletrônica) Crescimento de cristais
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Aderencia | Crescimento De Cristais | Diamante Cvd | Filmes Finos | Plasma De Microondas | Transparencia Optica

Resumo

Deseja-se estudar com mais profundidade o crescimento de filmes finos e auto sustentados de diamante-CVD usando a técnica assistida por Micro-ondas em 2,45 GHz, com Descarga em Guias de Onda, normalmente chamada de SURF ATRON. Esta técnica tem características inovativas, sendo que alguns parâmetros de crescimento foram, pela primeira vez, estudados pelo autor, e cujo resultado mostrou-se muito promissor. Esta técnica é, também, uma extensão da técnica usada no projeto anterior, de onde se baseou com os resultados alcançados. E, com base nesses resultados, é esperado obter filmes finos e auto sustentados depositados em vários tipos de substratos, entre eles o quartzo, o silício, o borosilicato, o carbeto de tungstênio e ligas metálicas especiais, com baixa rugosidade e alta aderência. No caso do quartzo, silício e borosilicato, espera-se obter, também, transparência óptica (UV-VIS-IV) alta, acima de 90% para filmes de espessura de até 3 um. É parte do presente projeto, estudar a dependência de defeitos e stress nos filmes com a aderência destes ao substrato. (AU)

Patente(s) depositada(s) como resultado deste projeto de pesquisa