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Study of oxygen plasma etching of carbon fiber felt for molecular sieve production.

Processo: 02/06769-0
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
Data de Início da vigência: 15 de setembro de 2002
Data de Término da vigência: 20 de setembro de 2002
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
Pesquisador responsável:Choyu Otani
Beneficiário:Choyu Otani
Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
Assunto(s):Peneira molecular 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Ativacao Por Plasma | Carbono Ativado | Feltro De Fibra De Carbono | Peneira Molecular | Plasma De Oxigenio
Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre o auxílio:
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