Effects of the methane content on the characteristics of dlc films produced by sputtering.

• Processo: 99/05228-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 30 de agosto de 1999
• Data de Término da vigência: 03 de setembro de 1999
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Choyu Otani
• Beneficiário: Choyu Otani
• Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Diamond Like Carbon | Plasma Deposition | Plasma Etching | Synthetic Diamond