Selective silicon nitride etching by ecr plasmas using sf6 and nf3 based gas mixtures.

• Processo: 03/08411-8
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 02 de novembro de 2003
• Data de Término da vigência: 07 de novembro de 2003
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Jacobus Willibrordus Swart
• Beneficiário: Jacobus Willibrordus Swart
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Nanotubos de carbono Catalisadores Diamantes CVD Seletividade Nitreto de silício Corrosão
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Catalisador | Corrosao | Cvd | Nanotubos De Carbono | Nitreto De Silicio | Seletividade