The effect of si-substrate on the optical characterization of ge nanostructures obtained by lpcvd.

• Processo: 07/03927-7
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil
• Data de Início da vigência: 03 de setembro de 2007
• Data de Término da vigência: 06 de setembro de 2007
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Ioshiaki Doi
• Beneficiário: Ioshiaki Doi
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos | Lpcvd | Nanoestruturas De Ge | Sige Poli | Materiais e Componentes Semicondutores