Plasma immersion ion implantation using a glow discharge source with controlled plasma potential.

• Processo: 99/04595-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 26 de julho de 1999
• Data de Término da vigência: 11 de agosto de 1999
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
• Pesquisador responsável: Mario Ueda
• Beneficiário: Mario Ueda
• Instituição Sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Tratamento de superfícies Implantação iônica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Analise De Superficies Tratada | Imersao Em Plasma | Implantacao Ionica | Implantacao Tridimensional | Potencial De Plasma | Tratamento Superficial