Silicon oxide deposition by ecr plasma for mems applications.

• Processo: 05/02679-4
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 28 de novembro de 2005
• Data de Término da vigência: 30 de novembro de 2005
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Andre Mascia Daltrini
• Beneficiário: Andre Mascia Daltrini
• Instituição Sede: Pessoa Física
• Assunto(s): Sistemas microeletromecânicos Deposiçăo por plasma Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Deposicao Por Plasma | Diagnosticos De Plasma | Ecr | Mems | Processos secos (plasmas)